Silikon Nitrit Seramik Boru

Tasarım Özellikleri
1. Malzeme bilimi düzeyinde formül optimizasyonu
Yüksek saflıkta Si₃N₄ substrat: saflık ≥99,5%, Y₂O₃-Al₂O₃ kompozit sinterleme yardımcı maddesi kullanılarak, tahrik sınır fazının kontrol edilebilir dağılımı sağlanarak yüksek sıcaklıklarda tahrik sınırının yumuşaması önlenmiştir.

Gradyan yapı tasarımı: Boru gövdesinin iç ve dış katmanları farklı yoğunluklara sahip olarak tasarlanmıştır (örneğin, korozyona karşı dayanıklı yüksek yoğunluklu dış katman ve yağlayıcı madde depolama için gözenekli iç katman), böylece hizmet ömrü % oranında uzatılmıştır.

2. Aşırı çevre koşullarına uyum sağlama tasarımı
Termal şoka dayanıklı yapı:

Mikro çatlak eğilme teknolojisi (β-Si₃N₃ whiskerlerinin yönlendirilmiş düzenlemesi sayesinde) ΔT≥800℃ olduğunda bile yapının sağlam kalmasını sağlar.

Boru ucunda metal flanşın termal genleşme katsayısına uyum sağlamak amacıyla önceden ayarlanmış metalize geçiş katmanı (Mo-Mn yöntemi) uygulanarak çatlamaya yönelik risk ortadan kaldırılır.

Koruyuculuk ve güçlendirme:

Yüzeyde lazer yeniden eritme işlemi ile nanokristal SiO₂ pasifasyon filmi oluşturulur; bu film HF hariç pH1-13 aralığındaki asit ve baz korozyonlarına karşı dirençlidir.

3. Hassas mühendislik yapısı
Ek tolerans kontrolü:

İç çap toleransı ±0,005 mm (hava yatağı seviyesinde), döngüsellik ≤0,003 mm olup yarıiletken wafer taşımacılığı için uygundur.

İç duvar aynalı cilası (Ra≤0,05 μm) akışkan direncini azaltır ve partikül birikimini önler.

Özel şekilli entegre tasarım:

Gömülü soğutma kanalları, gözenekli geçirgen yapılar (örneğin yakıt hücresi bipolar plakasındaki gaz yolu) ile diş/flanş entegre kalıplamayı destekler.