Braço cerâmico de alumina para manuseio robótico de wafers

Características de Design

Excelente Resistência ao Calor

As cerâmicas de alumina podem operar de forma estável em temperaturas de até 1650°C, o que é crucial para os ambientes de alta temperatura comuns na fabricação de semicondutores.

Alta Resistência ao Desgaste e Estabilidade Química

Este material oferece resistência excepcional ao desgaste mecânico e à corrosão química, garantindo durabilidade e estabilidade a longo prazo.

Não condutividade

A natureza não condutora da alumina garante que não ocorra interferência eletrostática ao manusear componentes eletrônicos sensíveis, o que é essencial para prevenir danos a circuitos delicados.

Design Geométrico Otimizado

Com múltiplos orifícios de montagem e duas alças alongadas, o design permite fácil fixação a outros equipamentos mecânicos, mantendo alta precisão nas operações.

Tratamento de superfície

Um acabamento superficial liso reduz o atrito, aumentando a precisão e a confiabilidade durante os processos de manuseio.

Áreas de Aplicação

Os braços de cerâmica de alumina possuem amplas aplicações na fabricação de semicondutores, incluindo principalmente as seguintes áreas:

Manuseio de wafers de silício

Transporte e posicionamento precisos de bolachas de silício sob condições extremas, garantindo eficiência e precisão no processo de fabricação.

Manuseio de Componentes Eletrônicos Sensíveis

Operação sem gerar eletricidade estática, protegendo a integridade e a funcionalidade dos componentes eletrônicos.

Operação em Ambientes de Alta Temperatura e Corrosivos

A estabilidade em ambientes de gases químicos e altas temperaturas torna-o extremamente útil em processos especializados, como gravação e limpeza.