Braccio in ceramica di allumina per la movimentazione robotizzata dei wafer

Caratteristiche di progettazione

Eccellente resistenza al calore

Le ceramiche di allumina possono funzionare stabilmente a temperature fino a 1650 °C, un fattore cruciale negli ambienti ad alta temperatura tipici della produzione dei semiconduttori.

Elevata resistenza all’usura e stabilità chimica

Questo materiale offre un’eccezionale resistenza all’usura meccanica e alla corrosione chimica, garantendo durata e stabilità nel lungo periodo.

Non conduttività

La natura non conduttiva dell’allumina assicura che non si verifichino interferenze elettrostatiche durante la manipolazione di componenti elettronici sensibili, elemento essenziale per prevenire danni ai circuiti delicati.

Progettazione geometrica ottimizzata

Dotato di molteplici fori di montaggio e due maniglie allungate, il design consente un facile fissaggio ad altre attrezzature meccaniche, mantenendo al contempo un’elevata precisione nelle operazioni.

Trattamento superficiale

Una finitura superficiale liscia riduce l’attrito, migliorando la precisione e l’affidabilità durante i processi di movimentazione.

Aree di applicazione

I bracci in ceramica di allumina trovano ampie applicazioni nella produzione dei semiconduttori, principalmente nei seguenti ambiti:

Manipolazione del wafer di silicio

Trasporto e posizionamento accurati delle wafer di silicio in condizioni estreme, garantendo efficienza e precisione nel processo produttivo.

Manipolazione di componenti elettronici sensibili

Funzionamento senza generare cariche elettrostatiche, proteggendo l’integrità e la funzionalità dei componenti elettronici.

Operazione in ambienti ad alta temperatura e corrosivi

La stabilità in ambienti con gas chimici e alte temperature lo rende estremamente utile in processi specializzati come l’etching e la pulizia.