BN窒化ホウ素セラミックディスクスペーサー

設計上の特徴
窒化ホウ素セラミックディスク（セラミック構造リングとも呼ばれる）は、高温・高圧環境下で優れた電気絶縁特性を必要とする工業用途を中心に使用される高性能セラミック材料です。その主な特長と応用分野は以下のとおりです。

高温安定性

窒化ホウ素セラミックは、極めて高い温度（空気中では最大850℃、不活性ガス中では2000℃）においてもその構造と性能を維持できるため、高温環境に適しています。.

優れた電気絶縁性

窒化ホウ素は優れた電気絶縁性を有し、室温での抵抗率は最大10^16 Ω·cmに達するため、電気機器における安全性を確保します。.

優れた熱伝導率

高い熱伝導率（50～70 W/(m·K)）を持つ窒化ホウ素は、機器の熱性能を最適化するための熱管理システムへの適用に理想的です。.

低い熱膨張係数

窒化ホウ素は低い熱膨張係数（1～1.2×10^-6/K）を有しており、熱サイクル条件下でも寸法安定性を保ち、熱応力による問題を低減します。.

化学的不活性性

窒化ホウ素は多くの化学物質や腐食性環境に対して高い耐性を示すため、過酷な条件下でも性能が損なわれません。.

自己潤滑性

六方晶窒化ホウ素にはある程度の潤滑性が備わっており、摩擦係数の低い機械的用途にも適しています。.