Shenzhen Hard Precision Ceramic Co., Ltd.

Pistone in ceramica di zirconia ZrO2 ad alta precisione

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Pistone in ceramica di zirconia ZrO2 ad alta precisione

Caratteristiche di progettazione

Ottime proprietà dei materiali

Ossido di zirconio ad alta purezza (superiore al 95%): Durezza ≥1200HV, resistenza all’usura supera di gran lunga quella dei metalli e delle ceramiche ordinarie.

Basso coefficiente di attrito: Lucidatura superficiale fino a Ra≤0,1μm, riduce l’adesione dei mezzi e prolunga la durata delle guarnizioni.

Tecnologia di lavorazione di precisione

Precisione a livello nanometrico: Tolleranza sul diametro ±0,01mm, adatto per il controllo dei fluidi ad alta precisione.

Struttura diversificata: Supporta testate piatte, coniche, design multistadio, ecc., adatto alle diverse esigenze dei corpi pompa.

Adattabilità ambientale

Resistenza alla corrosione: Resistenza agli acidi e agli alcalini, resistenza ai solventi organici, adatto a ambienti estremi con pH da 1 a 14.

Resistenza alle alte temperature: Temperatura di esercizio può raggiungere 800℃ (formula parzialmente stabilizzata).

Design migliorato

Resistenza alla tenacia alla frattura: Grazie al trattamento di stabilizzazione con ittrio (Y-TZP), resistenza alla flessione ≥1000MPa.

Leggerezza: Densità 6,0g/cm³, 60% più leggero del pistone metallico, riducendo il consumo energetico delle apparecchiature.

Aree di applicazione

Medico e farmaceutico

Pompe per infusione mediche, pistoni per attrezzature odontoiatriche, soddisfano i requisiti di sterilità e resistenza ai disinfettanti.

Apparecchiature industriali ad alta pressione

Macchine per la pulizia ad alta pressione, ugelli per il taglio ad acqua, resistono a pressioni superiori a 200MPa.

Chimico e petrolchimico

Pompe dosatrici, trasporto di media corrosivi, sostituiscono l’acciaio inox 316L.

Lavorazione degli alimenti

Stantuffi lubrificanti per uso alimentare, conformi alla normativa FDA, senza rischio di contaminazione da ioni metallici.

Nuove energie e semiconduttori

Pompe ad idrogeno per celle a combustibile, attrezzature per la pulizia dei wafer, elevata purezza senza rilascio di particelle.

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